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多晶硅片清洗臭氧水機(jī)

作者:美特斯凈化 來源:美特斯凈化 發(fā)布時(shí)間:2023-06-10 瀏覽量:630

多晶硅片清洗臭氧水機(jī)

一、產(chǎn)品特點(diǎn):

1、臭氧水濃度高達(dá)50PPM(mg/L)

2.采用多年研發(fā)高濃度板式臭氧放電系統(tǒng),臭氧出口濃度高達(dá)300mg/L;

3、產(chǎn)品內(nèi)部采用獨(dú)創(chuàng)微納米高效臭氧混合系統(tǒng),直接與水混合出高濃度臭氧水

4、高效混合泵使臭氧利用率高達(dá)80%?以上;

5、全自動(dòng)智能控制,按鍵即可控制機(jī)器工作,產(chǎn)生高濃度臭氧水,快捷安全??????

6、管路采用衛(wèi)生級(jí)不銹鋼管件,耐壓力、耐腐蝕

7、不銹鋼外殼,?易擦洗,?衛(wèi)生防腐。?耐臭氧。

8、體積小,噪音低,產(chǎn)量穩(wěn)定。

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二:多晶硅片清洗試驗(yàn)數(shù)據(jù):

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通過本方法將臭氧水應(yīng)用于太陽(yáng)能電池用硅晶片的制作工藝中,清潔工藝中去除了94%以上的無機(jī)物(微入口者),殘留有機(jī)物進(jìn)一步去除了45%,從而確認(rèn)了臭氧清潔工藝的適用性。但是,雖然對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量沒有太大影響,但由于外觀原因影響產(chǎn)品價(jià)格的硬脂酸污染的去除實(shí)驗(yàn)中,長(zhǎng)期擱置的部分多晶硅晶片也沒有被去除,但研究結(jié)果表明,在硅錠的硅片工藝中立即應(yīng)用臭氧水清洗工藝,可以更有效地去除硬脂酸污染。



三、高濃度臭氧水體機(jī)設(shè)備原理?

采用先進(jìn)的物理制氧原理,通過制氧塔的變壓吸附作用,在常溫常壓下直接將空氣中的氧和氮分離,取得高純度的氧氣;然后采用電暈放電法獲取臭氧,在常壓下使含氧氣體在交變高壓電場(chǎng)作用下產(chǎn)生電暈放電生成臭氧;通過氣液混合系統(tǒng)進(jìn)行水和臭氧的混合后,得到一定濃度的臭氧水.



四、內(nèi)置核心部件介紹

(一)內(nèi)置制氧機(jī)

內(nèi)置臭氧專用制氧機(jī)采用納米分子篩技術(shù),利用空氣作為原料,通過分子塔生成高濃度氧氣.氧氣濃度在 93%以上。 采用了適合臭氧環(huán)境的耐腐蝕材料。增加了多級(jí)除濕裝置,適合臭氧高濕環(huán)境。設(shè)備發(fā)熱件和壓縮空氣經(jīng)過深度冷卻,設(shè)備溫升低,適合連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行。整個(gè)設(shè)備耐 腐蝕,耐潮濕,溫升低,可連續(xù) 24小時(shí)穩(wěn)定運(yùn)行。

內(nèi)置制氧機(jī)特點(diǎn)

① .耐腐蝕,適合臭氧環(huán)境。 和普通制氧機(jī)、醫(yī)用制氧機(jī)相比,采用了很多耐臭氧腐蝕材料,能在臭氧環(huán)境下長(zhǎng)期使用。

② .耐潮濕,適合潮濕環(huán)境。 和普通制氧機(jī)相比,采用了三級(jí)除濕措施。包括第一級(jí)深冷自動(dòng)排水,第二級(jí)除濕分子篩,第三級(jí)制氧分子篩除濕。前兩級(jí)除濕保護(hù)了制氧分子篩,延長(zhǎng)了制氧分子篩壽命,適合水處理環(huán)境潮濕場(chǎng)合。

③ .溫升低,適合連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行。 采用了空氣深冷技術(shù)和深度散熱技術(shù),設(shè)備溫升和傳統(tǒng)制氧機(jī)相比,由傳統(tǒng)制氧機(jī)的環(huán)境溫升 15-20℃大幅降低到3-5℃。

④ .內(nèi)置無油壓縮機(jī),免維護(hù)。 制氧機(jī)內(nèi)部采用了免維護(hù)的無油壓縮機(jī)。不需要經(jīng)常維護(hù)。

⑤ .以空氣為原料,制氧成本低。 制氧機(jī)以空氣為原料,物理方法制氧,日常沒有消耗材料。制氧成本基本上就是電費(fèi)和定期維護(hù)費(fèi),和氧氣瓶相比,氧氣成本非常低。

⑥ .?氧氣濃度高,沒有雜質(zhì)和水氣: 氧氣濃度可達(dá) 93%以上。制氧機(jī)內(nèi)置過濾材料,可過濾空氣中的雜質(zhì)和水氣。

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